ASML поставляет первую систему литографии высокого разрешения для Intel — Компьютер — Новости

Голландский производитель чипов ASML выпустил первую версию High-NAЭкстремальные ультрафиолетовые лучиСистемы литографии поставлены производителю микросхем Intel. УФ-машины с высокой числовой апертурой должны позволить производить полупроводники меньшего размера и быстрее.

Системы с высоким УФ-излучением NA стоят более 300 миллионов долларов каждая и поставляются в 250 отдельных коробках. Ожидается, что эти машины будут использоваться в коммерческом производстве чипов с 2026 или 2027 года. К 2027 или 2028 году ASML хочет поставлять двадцать систем с высокой числовой апертурой ежегодно.

Фотография первой поставки, предоставленная ASML. В социальных сетях Интел на первом месте, но он не единственный, кто разместил заказ на системы с высокой числовой апертурой у компании ASML из Вельдховена. TSMC, Samsung, SK hynix и Micron, среди прочих, заказали новые устройства EUV. Об этом сообщает агентство Рейтер..

Системы с высокой числовой апертурой — это новое поколение устройств ASML EUV с более высокой цифровой апертурой для увеличения плотности кристаллов. В конечном итоге за этим должна последовать Hyper-NA — система с более высокой цифровой апертурой для производства чипов меньшего размера. Ранее в этом году Tweakers поговорил с техническим директором Мартином ван ден Бринк о будущих целях ASML.